2011年10月13日、米紙ウォール・ストリート・ジャーナルは記事「中国のイノベーションの未来？」を掲載した。16日、環球時報が伝えた。

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中国政府は将来的に中国が世界の研究開発の中心になると豪語している。その言葉を証明するかのように、特許申請数は飛躍的に増加しているが、本当の意味での成果は少ない。中国に新たな研究開発拠点を構えた独化学工業メーカー・BASFを取材して中国の問題がよくわかった。

毎年、大量の理系大卒生が誕生する中国。研究開発にはもってこいの場所のようにも思えるが、教育体制の問題から卒業生の多くが研究するに足る能力を持っていない。また英語のレベルが低く、海外との連携が難しいことも問題だ。

もう一つ問題なのが離職率の高さ。給与が高い企業にすぐ転職してしまうだけではなく、「肩書き」をどんどん出世させたいという野心が強いこともすぐに辞めてしまう要因となっている。離職者による技術流出のリスクも深刻だ。

中国政府は知的所有権保護に取り組み、状況は改善しつつある。しかし地方政府は必ずしも積極的ではないのが現状だ。中国が本当の意味でイノベーションセンターに変わるためにはまだ時間が必要だろう。（翻訳・編集/KT）