日本人で中国のハイレベル人材査証（ビザ）を初めて取得した中森菜実さんは7日、神奈川県川崎市で、「こんなにスムーズに取得できるとは思っていなかった。今月末に中国へ行き、上海の研究所で働く」と話した。新華社が伝えた。

昨年、フランスのラ・ロッシェル大学で材料科学博士の学位を取得したばかりの中森さんは「中国のハイレベル人材を取得した初めての日本人だと知って興奮した。今後は一生懸命仕事をして、少しでも早く研究成果を出さないと」と高揚気味に語った。

中国の外国大使館は今年の1月1日から、外国人人材が中国に滞在するための査証の手続きを簡素化した。査証の有效期間は10年に延長され、滞在期間は最長180日になった。また、審査から発給までの時間が短縮され、その手続き費用も無料になった。これらの一連の対策により、さらに多くの外国人人材が中国の発展に参加し、中森さんのような外国の優秀な人材が中国の発展に寄与すると同時に、自分の才能を発揮できるようになった。

中森さんの得意分野は、圧電材料、強誘電体材料のフロンティア研究だ。そんな中森さんは、就職先に迷っていた時に、中国科学院上海硅酸塩研究所の研究員から、「当研究所の材料科学研究グループの研究プロジェクトに参加してほしい」との招きを受けた。

一流の研究所で、自由な科学研究環境、さらに、専門ともマッチしており、好待遇であったため、このチャンスを逃すまいと、中森さんはほとんど迷うことなく、上海で夢の実現を目指すことを決めた。

上海の受け入れ先のサポートもあり、中森さんはスムーズに外国人専門家の管理当局が発行した「外国ハイレベル人材確認書」を受け取った。そして、1月30日にすべての書類を持って中国大使館へ行き、査証取得の申請を行った。午前11時半にそれらの書類を提出し、午後4時には査証を受け取った。中森さんは中国大使館の作業効率の良さに驚いた。自身の微信（Wechat）のモーメンツにその日のうちに査証の画像を投稿し、英語で「査証をゲットした！上海に必ず行きます！」と書き込んだ。（提供/人民網日本語版・編集/KN）